高壓加氫釜

高壓加氫釜 催化加氫反應釜分為：多相催化加氫反應和均相催化加氫反應兩種，相比之下多相催化加氫的選擇性較低，反應方向不易控制，而均相催化加氫采用可溶性催化劑，選擇性較高，反應條件較溫和。  

機理（改變反應途徑，降低活化能）：吸附在催化劑上的氫分子生成活潑的氫原子與被催化劑削弱了鍵的烯、炔加成。催化加氫過程中催化劑回收與再生是生產中一個急需解決的難題，采用陶瓷膜設備可以將反應和分離兩個獨立單元相結合，使得加氫催化反應加氫催化反應可以擺脫繁雜的反應混合分離系統(tǒng)?？梢栽诨ぎa品中*截留催化劑，改善反應平衡條件，使產物品質得到顯著提高。以開發(fā)出陶瓷膜過濾工藝為核心的催化劑分離系統(tǒng)，能夠實現有效催化劑的連續(xù)返回，超細催化劑無害化處理后淘汰，過濾清液無剛性固體。  

高壓加氫釜參數：  

開合方式：KF快擰式  

密封方式：O型圈自緊密封  

換熱方式：電加熱&油浴  

加熱功率：100ML=800W,250ML&500ML=1000W（注1）  

設計溫度：300℃  

使用溫度：-10~250℃(注2)  

控溫精度：±1℃(無強放熱吸熱情況下)  

設計壓力：150BAR  

爆破壓力：125BAR  

使用壓力：≤100BAR(注3)  

標準材質：316L(注4)  

攪拌功率：80W  

攪拌扭矩：0.6NM  

攪拌速度：150~1000r/min  

操作系統(tǒng)：YZ-MRCTR  

注1不同容積加熱功率不同  

注2高溫模塊溫度范圍：50~250℃，低溫模塊溫度范圍：-10~50℃，我方提供低溫油浴系統(tǒng)可保證達到-10℃環(huán)境，甲方自備低溫設備視低溫設備確定溫度，低循環(huán)浴系統(tǒng)需另行配備。

注3使用負壓時應特殊說明，另裝負壓表和更換負壓傳感器。

注4有哈氏合金，蒙乃爾合金，鋯材，因科鎳,鈦材等特殊材質可訂制。